單晶硅清洗用超純水設(shè)備

　　單晶硅是指硅的單晶體，具有基本完整的點陣結(jié)構(gòu)。不同的方向具有不同的性質(zhì)，是一種良好的半導材料。用于制造半導體器件、太陽能電池等。

　　太陽能電池行業(yè)要應用單晶硅，首先就要對其加工清洗，而超純水設(shè)備就是一種出水電阻率非常高，不含任何雜質(zhì)，不導電的設(shè)備，符合單晶硅的清洗需求。

　　萊特萊德單晶硅清洗用超純水設(shè)備在設(shè)計上采用雙級反滲透與EDI及拋光混床相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理等特點。但是單晶硅清洗用超純水設(shè)備在長時間工作后，如果不定期進行維護，就很容易被污染，因此單晶硅清洗用超純水設(shè)備要這樣“呵護”，才能保證設(shè)備出水水質(zhì)符合要求。

　　1、將清洗液進行混合。

　　2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至反滲透系統(tǒng)，并排走原水，防止清洗液稀釋。

　　3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定，用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán)。

　　4、清洗泵進行浸泡一小時即可，污染較嚴重的反滲透膜可進行更長時間的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘，使反滲透膜上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。

　　6、用清水將清洗液沖去。此外，用酸清洗時應測pH值，當pH值上升0.5以上時應增加酸量。

　　萊特萊德超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，水質(zhì)穩(wěn)定在ppt級別，尤其是硼離子可以≤5ppt，能夠更好助力集成電路企業(yè)的發(fā)展，形成更強大的企業(yè)競爭力。