硅片清洗用水生產(chǎn)少不了超純水設備

　　半導體材料和設備作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈上游的產(chǎn)業(yè)，屬于芯片制造和封裝測試的支撐產(chǎn)業(yè)，因此常被稱為整個行業(yè)的“賣鏟人”。作為半導體材料的大宗產(chǎn)品，90%以上的半導體產(chǎn)品由硅片制成，因此市場需求非常大。2021年全球半導體硅芯片出貨面積將達到142億平方英寸，市場規(guī)模將達到140億美元。(數(shù)據(jù)來源：賢集網(wǎng))

　　硅片清洗是生產(chǎn)的重要組成部分。同時，應使用無雜質(zhì)的超純水進行清洗。超純水設備出口電阻率高，無雜質(zhì)，無導電性。在硅片清洗超純水設備的設計中，采用了兩級反滲透和EDI相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經(jīng)濟合理的特點。與傳統(tǒng)方法相比，該工藝具有以下優(yōu)點：

　　1、再生不需要再生化學品。EDI超純水設備在運行過程中不需要添加任何化學品，降低了系統(tǒng)運行成本。

　　2、不需要中和劑。EDI超純水設備運行期間，不會產(chǎn)生酸堿廢液，因此不需要酸堿中和槽。通常，EDI超純水設備產(chǎn)生的濃縮水可以完全回收。

　　3、整個系統(tǒng)的運行成本低。EDI超純水設備主要消耗電力來維持系統(tǒng)運行，其功耗低于傳統(tǒng)的混床工藝。

　　4、水資源利用率高。與混床工藝相比，EDI超純水設備的利用率可達95~99%，有效提高了水資源的利用率。

　　5、EDI超純水設備無需更換樹脂即可連續(xù)工作，無需人工操作，自動化性能強。

　　6、EDI超純水設備設計緊湊，占地面積小，安裝方便。

　　隨著國家政策支持力度的不斷加大，硅片行業(yè)對超純水的需求也在不斷增加。萊特萊德超純水設備出水電導率高達18MΩ·CM(25℃)。我們的目標是為用戶提供高品質(zhì)的超純水設備和實用解決方案。