超純水設(shè)備助力半導(dǎo)體元器件高質(zhì)量生產(chǎn)

　　電子元器件作為核心基礎(chǔ)零部件，是戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點(diǎn)領(lǐng)域之一，也是支撐新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點(diǎn)基礎(chǔ)產(chǎn)品。近年來，電子元器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展勢頭迅猛，產(chǎn)業(yè)規(guī)模與質(zhì)量效益同步實現(xiàn)，為經(jīng)濟(jì)發(fā)展提供了強(qiáng)勁動力。

　　電子元器件產(chǎn)業(yè)鏈的上游是原材料，主要包括光電材料、半導(dǎo)體材料、磁性材料等。在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，超純水用于晶圓沖洗、化學(xué)稀釋、化工機(jī)械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕等多種場合，超純水的質(zhì)量直接關(guān)系到半導(dǎo)體的良品率。萊特萊德超純水設(shè)備采用獨(dú)特的靶向離子交換系統(tǒng)去除超純水中的硼離子，可以將硼離子含量穩(wěn)定的控制在3PPT以下，采用獨(dú)有工藝可以控制在1PPT以下，同時連續(xù)穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水。目前廣泛應(yīng)用于晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍、試劑稀釋、氟化工等領(lǐng)域。

　　萊特萊德超純水設(shè)備是將反滲透系統(tǒng)、EDI裝置和拋光混床工藝，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度。超純水設(shè)備的EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，具有非常高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益。精混床經(jīng)過技術(shù)升級后，無需任何操作即可穩(wěn)定運(yùn)行，出水水質(zhì)可以滿足芯片生產(chǎn)用水的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。

　　萊特萊德超純水設(shè)備產(chǎn)出超純水滿足ASTM D5127-13中E1.3水質(zhì)指標(biāo)，符合半導(dǎo)體元器件生產(chǎn)用水需求。萊特萊德超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定地制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，助力半導(dǎo)體企業(yè)的發(fā)展，從而幫助企業(yè)提高市場競爭力。

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　　編輯：虞美人 技術(shù)：木子