國(guó)產(chǎn)高性能GPU芯片即將發(fā)布

　　GPU芯片一般指圖形處理器。目前，我們的市場(chǎng)上還沒有大量的國(guó)產(chǎn)高性能GPU芯片，這是我們技術(shù)上的一大痛點(diǎn)。然而，缺乏國(guó)產(chǎn)GPU芯片將很快成為過去。11月18日，芯動(dòng)科技通過官方微信在國(guó)產(chǎn)GPU芯片上發(fā)布公告。在此次發(fā)布中，他們宣布為中國(guó)5G量身定制的高性能GPU芯片已經(jīng)成功開發(fā)并通過測(cè)試。這款GPU芯片名為風(fēng)華1號(hào)，即將推出。

　　公告數(shù)據(jù)顯示，風(fēng)華GPU芯片采用GDDR6X和chiplet技術(shù)，使國(guó)產(chǎn)高性能GPU芯片實(shí)現(xiàn)了從空白到突破的轉(zhuǎn)變。在某種程度上，風(fēng)華GPU芯片的研發(fā)使我們不再需要完全依賴國(guó)外技術(shù)。據(jù)信東發(fā)布的消息，風(fēng)華GPU芯片將用于國(guó)內(nèi)5G數(shù)據(jù)處理、元宇宙研發(fā)，未來云桌面可能需要較高的圖形處理。

　　芯片生產(chǎn)的幾乎每一道工序都需要超純水清洗，工件直接與水接觸。超純水已成為芯片行業(yè)用水的“基準(zhǔn)”。超純水的水質(zhì)直接影響芯片效果，但超純水的回用率不高，因此對(duì)高品質(zhì)超純水的需求量巨大。硼是P型雜質(zhì)，過量會(huì)使n型硅反型，對(duì)電子、空穴濃度有影響。因此在超純水行業(yè)中，要充分考慮硼的脫除。

　　ASTM-D5127-13標(biāo)準(zhǔn)中E1.3中要求硼離子≤0.05μg/L。如果硼離子含量能夠達(dá)到更低的指標(biāo)，勢(shì)必會(huì)提升芯片的性能。Huncotte系統(tǒng)選用核子級(jí)樹脂，通過獨(dú)有的靶向離子交換樹脂，能夠有效控制系統(tǒng)出水的硼離子含量，硼離子含量通過IPC-MS檢測(cè)，硼離子出水遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于0.05μg/L。